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碰到瓶頸了：Intel、三星7nm工藝受阻
種別：社會消息宣布人：依致美宣布時光：2017-03-02
3月2日新聞 固然台積電號稱本身很快將進入7nm工藝，乃至連5nm和3nm的工藝都曾經在設計驗證了，然則凡事照樣要擺現實講事理。作爲半導體行業領頭羊的三星和Intel均表現，7nm的障礙史無前例的大，所須要的EUV（極紫外光刻）光刻機商用成績非常嚴重。
昨天除人人熟習的GDC Nvidia大會，還有一排場向專業人員的國際光電工程學會(SPIE)年度會議，在會議上，包含Intel和三星的頂尖專家均表現今朝EUV技術推動速度非常地遲緩。
這兩家行業巨子，三星表現客歲臨盆的首款EUV光罩今朝曾經趨近完善，而Intel早在1992年就開端研討起EUV，終究在客歲勝利投入臨盆並商用，不外Intel異樣表現EUV技術還沒有完整成熟，本身仍在研討。
作爲光刻機的霸主，荷蘭ASML公司的NXE 3350B成了將來EUV技術的主力，據悉一台光刻機的售價到達了6億人民幣，比F35戰役機還貴。
然則ASML的專家卻稱，今朝NXE 3350B的成績照樣頗多，即便可以或許正常運轉跨越75%的時光，然則EUV光罩成績照樣讓商用難以成爲實際。看模樣不是Intel不想提高，切實其實半導體行業須要一個反動性的轉變了。