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    碰到瓶頸了:Intel、三星7nm工藝受阻

    種別:社會消息宣布人:依致美宣布時光:2017-03-02

    3月2日新聞 固然台積電號稱本身很快將進入7nm工藝,乃至連5nm和3nm的工藝都曾經在設計驗證了,然則凡事照樣要擺現實講事理。作爲半導體行業領頭羊的三星和Intel均表現,7nm的障礙史無前例的大,所須要的EUV(極紫外光刻)光刻機商用成績非常嚴重。

    碰到瓶頸了:Intel、三星7nm工藝受阻

    昨天除人人熟習的GDC Nvidia大會,還有一排場向專業人員的國際光電工程學會(SPIE)年度會議,在會議上,包含Intel和三星的頂尖專家均表現今朝EUV技術推動速度非常地遲緩。

    這兩家行業巨子,三星表現客歲臨盆的首款EUV光罩今朝曾經趨近完善,而Intel早在1992年就開端研討起EUV,終究在客歲勝利投入臨盆並商用,不外Intel異樣表現EUV技術還沒有完整成熟,本身仍在研討。

    作爲光刻機的霸主,荷蘭ASML公司的NXE 3350B成了將來EUV技術的主力,據悉一台光刻機的售價到達了6億人民幣,比F35戰役機還貴。

    然則ASML的專家卻稱,今朝NXE 3350B的成績照樣頗多,即便可以或許正常運轉跨越75%的時光,然則EUV光罩成績照樣讓商用難以成爲實際。看模樣不是Intel不想提高,切實其實半導體行業須要一個反動性的轉變了。

    
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